HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
主要性能特點
* 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。
* 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
|
測量項目
|
技術參數描述
|
|
測量范圍
|
0 to 400 ppm (mg/L) SO2
|
|
解析度
|
1 ppm (mg/L)
|
|
測量精度
|
讀數的5%
|
|
測量方法
|
滴定法
|
|
測量原理
|
等電位氧化還原滴定法
|
|
樣品取樣量
|
50 mL
|
|
氧化還原電極類型
|
HI 3148B/50食品專用玻璃復合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C
|
|
定量泵設置
|
流量設置為：0.5 mL/min
|
|
磁力攪拌設置
|
攪拌速率設置為：1500 rpm
|
|
適用環境
|
0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝
|
|
電源模式
|
AC230V/60 Hz；10VA
|
|
尺寸重量
|
主機尺寸：208 x 214 x 163 mm? 主機重量：2200 g
|
|
pH值與游離二氧化硫轉換關系
|
|
相關項目
|
pH值與游離二氧化硫轉換對應值
|
|
pH值
|
3.0pH
|
3.1 pH
|
3.2 pH
|
3.3 pH
|
3.4 pH
|
3.5 pH
|
3.6 pH
|
3.7 pH
|
3.8 pH
|
3.9 pH
|
|
游離二氧化硫（ppm）
|
14
|
18
|
22
|
28
|
35
|
44
|
55
|
69
|
87
|
109
|
HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
