產品介紹:
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
1、基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
2、性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。
3、人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
4、殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
5、通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
6、當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
技術參數：
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測量項目 |
二氧化硫 |
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量程 |
0 to 400 ppm of SO2 |
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解析度 |
1 ppm |
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精度 |
讀數的5% |
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測量方法 |
滴定法 |
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測量原理 |
等電位氧化還原滴定法 |
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取樣量 |
50 mL |
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ORP 電極 |
HI 3148B |
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泵流量 |
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攪拌速率 |
1500 rpm |
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適用環境 |
0 to 50°C(32 to122°F); max 95% RH無冷凝 |
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供電方式 |
220V/60 Hz; 10VA |
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尺寸重量 |
208 x 214 x163 mm；2200 g |
